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高性能臺(tái)式設(shè)備喊你快上車 ——小、快、靈,薄膜制備與加工的器

更新時(shí)間:2020-12-04點(diǎn)擊次數(shù):1117

    隨著材料科學(xué)的蓬勃發(fā)展,尤其是高水平的量子材料研究與應(yīng)用對(duì)薄膜材料、二維材料的制備和高精度加工要求越來越高。套完整流程的薄膜制備與加工設(shè)備購(gòu)置成本通常要在幾百萬到上千萬元。此外,大型設(shè)備操作繁復(fù),存放空間大、日常維護(hù)成本高,給科研人員帶來了很大挑戰(zhàn)。依賴于共享方案的科研平臺(tái)由于設(shè)備預(yù)約周期長(zhǎng),會(huì)大大減慢科研進(jìn)度。為了快速、低成本的實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的材料制備與加工,讓科研計(jì)劃進(jìn)入快車道。英國(guó)Moorfield Nanotechnology公司與多所名校以及獲得諾貝爾獎(jiǎng)的課題組長(zhǎng)期合作,推出了系列高性能臺(tái)式設(shè)備, 門用于各種薄膜材料的高質(zhì)量制備和加工。該系列產(chǎn)品具有體積小巧、快速制備樣品、靈活配置方案等點(diǎn),經(jīng)推出即受到包括劍橋大學(xué)、帝國(guó)理工、英國(guó)國(guó)家物理實(shí)驗(yàn)室等科研單位的青睞。

    從多功能金屬、緣材料濺射到有機(jī)物、金屬熱蒸發(fā);從高質(zhì)量石墨烯CVD快速制備到高質(zhì)量碳納米管CVD趨向生長(zhǎng);從樣品、襯底的精熱處理到單層二維材料的準(zhǔn)確軟刻蝕與缺陷加工。Moorfield系列產(chǎn)品已經(jīng)獲得歐洲用戶的廣泛認(rèn)可,產(chǎn)品質(zhì)量與性能*可以媲美大型設(shè)備,些方面甚至遠(yuǎn)超大型設(shè)備。

臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD

    為高水平學(xué)術(shù)研究研發(fā)的小型物理氣相沉積設(shè)備。該系列產(chǎn)品包含磁控濺射、金屬/有機(jī)物熱蒸發(fā)系統(tǒng)。這些設(shè)備不僅體積小巧而且性能越,能夠快速實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量納米薄膜、異質(zhì)結(jié)的制備,通常在大型設(shè)備中才有的共濺射、反應(yīng)濺射、共蒸發(fā)功能也可在該系列產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn)。

 

臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD

 

臺(tái)式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVD

    系統(tǒng)采用低熱容的樣品臺(tái)可在2分鐘內(nèi)升溫至1000℃并準(zhǔn)確控溫,該裝置采用了冷壁技術(shù),樣品生長(zhǎng)完畢后可以快速降溫,正是因?yàn)檫@些條件可以讓用戶在30分鐘內(nèi)即可獲得高質(zhì)量的石墨烯。nanoCVD具有壓強(qiáng)自動(dòng)控制系統(tǒng),可以準(zhǔn)確的控制石墨烯生長(zhǎng)過程中的氣氛條件。用戶通過觸屏進(jìn)行操作,更有內(nèi)置的標(biāo)準(zhǔn)石墨烯生長(zhǎng)示例程序供用戶參考。非常適合需要持續(xù)快速獲取高質(zhì)量石墨烯用于高質(zhì)量學(xué)術(shù)研究的團(tuán)隊(duì)。目前,??巳髮W(xué)、哈德斯菲爾德大學(xué)、萊頓大學(xué)、亞森工業(yè)大學(xué)等很多著名的高校都是該系統(tǒng)的用戶。

臺(tái)式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVD

臺(tái)式超準(zhǔn)確二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH

    石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度,而目前傳統(tǒng)半導(dǎo)體刻蝕系統(tǒng)在面對(duì)單層材料的高精度刻蝕需求時(shí)顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的刻蝕系統(tǒng)功率較大、難以精細(xì)控制的問題,nanoETCH系統(tǒng)對(duì)輸出功率的分辨率可達(dá)毫瓦量,可實(shí)現(xiàn)二維材料超準(zhǔn)確逐層刻蝕、層內(nèi)缺陷制造,以及對(duì)石墨基材或襯底等的表面處理。

臺(tái)式超準(zhǔn)確二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH

臺(tái)式準(zhǔn)確氣氛\(chéng)壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL

    Moorfield門為制備高質(zhì)量的樣品而推出的臺(tái)式準(zhǔn)確氣氛\(chéng)壓力控制高溫退火系統(tǒng),不僅可以滿足從高真空到各種氣氛的退火需求,還能對(duì)氣壓和溫度進(jìn)行準(zhǔn)確控制,從而為二維材料、基片等進(jìn)行準(zhǔn)確可控?zé)崽幚硖峁┲匾U?。該系統(tǒng)顛覆了傳統(tǒng)箱式、管式爐的粗放退火方式,開創(chuàng)了準(zhǔn)確退火的新篇章。

 

臺(tái)式準(zhǔn)確氣氛\(chéng)壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM

    nanoEM是Moorfield Nanotechnology為SEM、TEM樣品的表面導(dǎo)電處理以及普通樣品的高質(zhì)量電生長(zhǎng)而設(shè)計(jì)的金屬濺射系統(tǒng)。系統(tǒng)配備SEM樣品托、TEM樣品網(wǎng)、普通薄膜樣品等多種樣品臺(tái)。雖然該系統(tǒng)主要為濺射金屬而設(shè)計(jì),但是該設(shè)備的性能已經(jīng)達(dá)到了高質(zhì)量薄膜樣品的制備標(biāo)準(zhǔn)。通過選擇不同的配置可以兼顧樣品的表面導(dǎo)電處理、電制備與學(xué)術(shù)研究型薄膜樣品的制備。

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM

    Moorfield高性能臺(tái)式薄膜制備與加工設(shè)備以超高質(zhì)量、親民的價(jià)格快速實(shí)現(xiàn)您的科研方案,想獲取更多詳細(xì)信息嗎?還等什么,現(xiàn)在就聯(lián)系我們吧!

 

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